半導体プロセス

シリコンインターポーザー完全ガイド – 高帯域接続を支える中間層技術

1. シリコンインターポーザーとは?

シリコンインターポーザーは、半導体チップと基板の間に挟まる**中間層(インターポーザー)**の一種で、シリコン素材で作られた配線基板です。
従来の有機基板よりも配線幅を微細にでき、複数のチップ(CPU/GPU/メモリなど)を高密度・高速に接続できます。

特に、HBM(High Bandwidth Memory)をロジックチップに近接配置する2.5Dパッケージングで必須の部材です。


2. 役割と特徴

主な役割

  1. 高密度配線

    • 配線ピッチは数μm単位で形成可能(有機基板の約1/10〜1/20)

  2. 短距離・広帯域通信

    • チップ間の距離を極限まで短縮し、遅延を減らす

  3. 複数チップ統合

    • CPU/GPU、メモリ、I/Oチップを1パッケージにまとめる


3. 製造プロセスのポイント

  • シリコンウエハを加工して配線層を形成

  • TSV(Through-Silicon Via):シリコンを垂直に貫くビアを形成し、上下層を接続

  • 絶縁膜+メタル配線(銅など)で信号・電源ラインを構築

  • 最終的にロジックチップやHBMを実装


4. メリットと課題

メリット

  • 高帯域:1TB/sクラスのメモリ帯域も実現可能

  • 信号品質の向上(低遅延・低ノイズ)

  • 大型チップや複数チップを一体化できる

課題

  • 製造コストが高い(シリコン加工+微細配線工程が必要)

  • 大型インターポーザーの歩留まり低下リスク

  • 放熱設計が難しい(シリコンは熱伝導性が高いが密集実装は発熱増大)


5. 主な採用事例(2025年時点)

製品採用技術用途
NVIDIA H100/B100CoWoS(TSMC)+大型シリコンインターポーザーAI/HPC
AMD MI3002.5D+HBM統合AI/HPC
Intel Ponte VecchioEMIB+一部シリコンブリッジAI/HPC
高性能FPGA(Xilinx, Intel)2.5D構造データセンター

6. 関連パッケージ技術との位置づけ

技術インターポーザー特徴
CoWoS(TSMC)大型シリコンインターポーザーGPU+HBM
I-Cube(Samsung)大型シリコンインターポーザーメモリ統合効率
EMIB(Intel)部分的シリコンブリッジコスト削減・柔軟性
Fan-Out(InFO等)基板レス(不要)薄型・低コスト、小型デバイス向け

7. 市場動向と今後

  • AI需要の急増で、HBM統合パッケージが増加 → シリコンインターポーザー需要も拡大

  • TSMC、Samsung、UMC、SPILなどが量産ラインを拡張

  • 将来はハイブリッドボンディング(直接接合)+薄型インターポーザーによるさらなる高密度化が進む


8. まとめ

シリコンインターポーザーは、**次世代半導体の性能を引き出すための「目立たない主役」**です。
特にAI・HPC・5G基地局・高性能ネットワーク機器において、チップ間通信のボトルネックを解消し、性能向上を支える中核技術となっています。
今後のパッケージング競争では、インターポーザーの大型化、高密度化、コスト低減が重要なテーマとなるでしょう。