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半導体プロセス

non-fungy  2026-05-06
半導体の工場

半導体レチクル(フォトマスク)の価格とは?プロセスノード別のコスト推移を徹底解説

2026-05-06 non-fungy
半導体業界のニュースで「2nm(ナノメートル)」や「3nm」といった言葉を耳にすることが増えました。最新のスマートフォンやAIチップを支える …
半導体プロセス

半導体とスマホを支える「魔法の粉」:レチクルとレアアースの意外な関係

2026-05-06 non-fungy
現代社会において、スマートフォンやAI、自動運転車はなくてはならない存在です。これらの心臓部である「半導体チップ」を作るために欠かせないのが …
半導体の会社分析

半導体産業の「原版」を握る:レチクルビジネスで躍進する企業たち

2026-05-06 non-fungy
現代の生活に欠かせないスマートフォン、AI、自動車。これらすべてを動かしているのは、爪の先ほどの小さなチップ「半導体」です。この半導体を作る …
半導体の会社分析

Rapidusの2nmプロセス技術詳解|GAA・EUV・最先端製造技術の全容

2026-05-03 non-fungy
Rapidusが目指す「2nmプロセス」は、現在世界で量産されている最先端半導体(TSMCのN3:3nm世代)と同等以上の微細化レベルです。 …
半導体の会社分析

背面給電技術の未来展望|2030年以降の半導体ロードマップとBSPDNの進化

2026-05-03 non-fungy
背面給電技術(BSPDN)は2025〜2026年の量産化フェーズを経て、2030年以降にはさらなる技術的進化を遂げると予測されます。  …
半導体の会社分析

SamsungのBSPDN戦略|SF1.4(1.4nm)プロセスと背面給電技術の組み合わせ

2026-05-03 non-fungy
Samsung Foundryは背面給電技術(BSPDN)をSF1.4(1.4nm相当)プロセスに組み込む計画を持ち、業界3番手として参戦し …
半導体の工場

背面給電技術の製造プロセス詳解|ウェハー薄化・裏面配線・ナノビア形成の最前線

2026-05-03 non-fungy
背面給電技術(BSPDN)の実現には、従来の半導体製造プロセスに全く新しい工程が加わります。 ウェハーを数十nmまで薄く研磨する「極薄 …
no image 半導体プロセス

第2回:車載半導体が求める品質とは?IATF 16949の要求事項をやさしく解説

2026-04-09 non-fungy
はじめに 前回はIATFの基本と半導体との関係をご説明しました。今回は「IATF 16949という規格が、具体的にどんなことを要求している …
半導体の会社分析

超純水に欠かせない会社たち – 半導体産業を水で支える企業群

2025-08-09 non-fungy
1. はじめに 半導体製造において、超純水(Ultra-Pure Water, UPW)は欠かせない存在です。ウエハーの洗浄工程は数百回に …
半導体プロセス

半導体工場はどれだけ超純水を使うのか? – 製造現場のリアルと課題

2025-08-09 non-fungy
1. 半導体と超純水の関係 半導体チップは、ナノメートル単位の精度で作られる極めて繊細な製品です。その製造工程では、ウエハー表面にわずかな …
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