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フォトマスク

semi-connect編集室

半導体プロセス

フォトリソグラフィの進化の歴史──g線・i線・KrF・ArF液浸・多重露光・EUV・High-NA EUVまで40年の技術革命

2026-07-16 semi-connect編集室

1980年代に半導体製造ラインで使われていた光の波長は436nm（g線）でした。2026年現在、最先端ファブでは13.5nm（EUV）が使わ …

半導体プロセス

EUVフォトマスク（レチクル）完全解説──1枚数千万円・反射型構造・位相欠陥とActinic検査が必要な理由

2026-07-16 semi-connect編集室

半導体の製造ラインで1枚数千万円〜1億円超の値段がつくものがあります。EUVフォトマスク（レチクル）です。 EUVリソグラフィでは、こ …

半導体プロセス

レーザーテックの競争力を徹底解剖──EUVマスク検査で世界シェア100%を独占できる本当の理由

2026-07-15 semi-connect編集室

「従業員1,300人の会社が、売上2,200億円・営業利益率45%超・世界シェア100%」──レーザーテック株式会社（証券コード：6920） …