High-NA EUV完全解説2026──開口数0.55・Anamorphic光学系・IntelとTSMCで採用戦略が分かれる理由
2026-07-18 semi-connect編集室 2026年7月、Intelが世界で初めてHigh-NA EUV（開口数NA=0.55）を使った量産ロジックチップを出荷しました。従来EUV（ …
半導体検査装置メーカー比較2026──KLA・レーザーテック・アドバンテスト・日立ハイテクを工程別・業績別に整理
2026-07-17 semi-connect編集室 「半導体検査装置」と一口に言っても、フォトマスクの欠陥を見る装置、ウェーハ上のパターンを計測する装置、完成したチップの電気特性をテストする装 …
EUVとDUVを徹底比較──なぜ3nm以降はEUVしか選択肢がないのか、コスト・解像度・スループットで整理
2026-07-17 semi-connect編集室 「EUVとDUVの違いは波長」という説明を聞いたことがある方は多いでしょう。しかし「だからなぜ3nm以下はEUVしか使えないのか」「DUVで …
フォトリソグラフィの進化の歴史──g線・i線・KrF・ArF液浸・多重露光・EUV・High-NA EUVまで40年の技術革命
2026-07-16 semi-connect編集室 1980年代に半導体製造ラインで使われていた光の波長は436nm（g線）でした。2026年現在、最先端ファブでは13.5nm（EUV）が使わ …
レーザーテックの競争力を徹底解剖──EUVマスク検査で世界シェア100%を独占できる本当の理由
2026-07-15 semi-connect編集室 「従業員1,300人の会社が、売上2,200億円・営業利益率45%超・世界シェア100%」──レーザーテック株式会社（証券コード：6920） …
ラピダス2nm × ノエトラ──国産AI × 国産チップは実現するか？タイムライン・技術要件・3シナリオで徹底分析【2026年版】
2026-07-09 semi-connect編集室 2026年、日本では2つの巨大な国家プロジェクトが同時進行しています。 ラピダス（Rapidus）：北海道千歳で世界最先端の2nm …
マイクロン広島工場の全貌──1.5兆円投資・HBM4量産・エルピーダから続く日本DRAM拠点の今【2026年版】
2026-07-08 semi-connect編集室 2026年7月4日、広島県東広島市のマイクロンメモリジャパン（Micron Memory Japan）広島工場で、新たなクリーンルーム建設の …
