半導体プロセスフォトリソグラフィの進化の歴史──g線・i線・KrF・ArF液浸・多重露光・EUV・High-NA EUVまで40年の技術革命 2026-07-16 semi-connect編集室 1980年代に半導体製造ラインで使われていた光の波長は436nm(g線)でした。2026年現在、最先端ファブでは13.5nm(EUV)が使わ …
半導体プロセスチップレット技術の完全解説【2026年版】仕組み・パッケージング比較・UCIe 3.0・採用事例まで 2026-07-12 semi-connect編集室 半導体業界でいま最も注目される技術トレンドのひとつがチップレット(Chiplet)です。AMD・Intel・NVIDIAのフラグシップ製品は …