三井化学がJSR買収へ──1.3兆円で半導体材料の勢力図はどう変わるか

国内化学業界で過去最大のM&Aが動き出した。2026年11月4日、三井化学が政府系ファンドである産業革新投資機構（JIC）からJSRの株式を1兆3000億円以上で買い取る方針であることが報じられた（日本経済新聞）。JICは三井化学を売却先の優先交渉権者に選定しており、正式契約に向けた協議が進む見通しだ。

フォトレジスト世界トップクラスのJSRと、EUVペリクルで独自の存在感を持つ三井化学──この2社が統合すれば、半導体の露光工程に欠かせない主要材料が一つのグループに集約される。買収額の規模、競合各社との位置関係、そして半導体サプライチェーンへの影響を整理する。

Contents

JSRとは──フォトレジスト世界トップクラスの化学メーカー
- JICによる非上場化──約9000億円の投資
三井化学の半導体材料事業──EUVペリクルという強み
買収の概要──数字で見る1.3兆円のインパクト
統合で変わる露光工程の材料供給体制
半導体材料業界の勢力図──主要プレイヤー比較
半導体サプライチェーンへの影響──顧客・装置メーカーとの関係
JICの出口戦略──官民ファンドが果たした役割
今後の確認ポイント
まとめ──露光材料の「垂直統合」が持つ意味
参考にした主な資料

JSRとは──フォトレジスト世界トップクラスの化学メーカー

JSRは合成ゴムの国産化を目的として設立された化学メーカーである。現在の主力事業は半導体材料で、とりわけフォトレジスト（感光材）では世界トップクラスのシェアを持つ（産経ニュース）。

フォトレジストは、半導体製造のリソグラフィ（露光）工程で使われる材料だ。シリコンウェーハの表面に塗布し、光を当てて回路パターンを転写する。半導体の微細化が進むほどレジストに求められる性能は厳しくなり、EUV（極端紫外線）リソグラフィ向けでは分子レベルの均一性が要求される。JSRはArF（フッ化アルゴン）露光用レジストで長年の実績を積み、EUV用レジストの開発・量産でも先行するポジションにある。フォトレジスト以外にもCMP（化学機械研磨）用スラリーや洗浄液など半導体プロセス材料を幅広く手がけており、半導体材料の総合サプライヤーとしての側面も持つ。

JICによる非上場化──約9000億円の投資

2024年、JICは約9000億円を投じてJSRを子会社化し、東証上場を廃止した（産経ニュース）。官民ファンドが化学メーカーを丸ごと買い取るという異例の案件であり、その背景には半導体材料が経済安全保障上の戦略物資であるとの認識があった。

非上場化の狙いは、四半期ごとの業績開示や株主還元の圧力から離れ、中長期の視点で事業再編や研究開発投資を加速させることにあった。JIC傘下で事業ポートフォリオの見直しが進められた結果、今回の三井化学への売却へとつながっている。

三井化学の半導体材料事業──EUVペリクルという強み

三井化学は総合化学メーカーとして石化製品からヘルスケアまで幅広い事業を展開するが、近年は半導体材料分野を成長事業として強化している（産経ニュース）。

なかでも際立つのがEUVペリクルの量産体制だ。ペリクルとは、フォトマスク（回路の原版）に装着する薄膜のことで、露光時にマスク表面へパーティクル（微小異物）が付着して回路パターンに欠陥が生じるのを防ぐ役割を担う。ArF露光用のペリクルは複数のメーカーが供給しているが、EUV露光用ペリクルは技術的なハードルが極めて高い。EUVは波長が短くエネルギーが大きいため、従来素材では膜が破壊されてしまい、新しい素材と製造プロセスの開発が不可欠となる。

三井化学はこのEUVペリクルの量産で先行しており、EUV露光装置の出荷拡大に伴って供給量を増やしている。TSMCやサムスン電子、インテルといった先端ロジックを製造するファウンドリ・IDMにとって、EUVペリクルの安定供給は生産ラインの稼働率に直結するため、三井化学のサプライヤーとしての存在感は年々大きくなっている。

買収の概要──数字で見る1.3兆円のインパクト

項目	内容
買収者	三井化学
売却者	産業革新投資機構（JIC）
対象会社	JSR（株式の大半）
買収額	1兆3000億円以上
JICの投資額（2024年）	約9000億円
JICのリターン（概算）	約4000億円以上
位置づけ	国内化学業界M&Aとして過去最大

三井化学はJICからJSR株式の大半を1兆3000億円以上で取得する方針だ（日本経済新聞）。JICが2024年に約9000億円を投じて取得したJSR株を、それを上回る価格で売却する形となり、差額は単純計算で約4000億円以上に達する。買収額はJICの投資額を上回る規模になるとみられる（産経ニュース）。

三井化学にとっては、自社の事業規模に対して非常に大きな投資だ。1兆3000億円超の資金をどのように調達するか──自己資金、金融機関からの借入、あるいはエクイティファイナンスの組み合わせ──は、今後の交渉過程で明らかになるとみられる。負債の拡大がバランスシートに与える影響は、今後の決算で確認すべきポイントとなる。

統合で変わる露光工程の材料供給体制

材料	機能	JSR	三井化学	統合後
フォトレジスト	回路パターンを転写する感光材	○（世界トップクラス）	–	○
EUVペリクル	フォトマスクを異物から保護する薄膜	–	○（量産で先行）	○
CMP材料	研磨による表面平坦化	○	–	○
ICT材料	半導体パッケージ向け材料等	–	○	○

統合後のグループは、リソグラフィ工程の「入り口」であるフォトレジストと「防御壁」であるペリクルの両方を同一グループ内で供給できるようになる。これは半導体材料業界においてユニークなポジションだ。

半導体メーカーから見ると、露光工程に関わる材料調達の窓口を一本化できる可能性がある。レジストとペリクルの相互最適化──たとえばレジストの感度特性に合わせたペリクル透過率の調整──がグループ内で完結すれば、材料評価の効率化や開発期間の短縮につながりうる。

一方で、サプライヤーの集中はリスクでもある。先端半導体の生産において材料の供給途絶はライン停止に直結するため、顧客はセカンドソースの確保を重視する傾向にある。フォトレジストとペリクルが同一企業グループに集約されれば、顧客側が代替供給元の育成を加速する動きが出ることも想定される。統合のメリットが実際に発揮されるかは、グループとしての供給安定性と技術提案力にかかっている。

半導体材料業界の勢力図──主要プレイヤー比較

企業名	主力の半導体材料	特徴
JSR → 三井化学傘下	フォトレジスト、CMP材料	フォトレジスト世界トップクラス＋EUVペリクル
東京応化工業（TOK）	フォトレジスト	ArF・EUV用レジストで高シェア
信越化学工業	シリコンウェーハ、フォトレジスト	ウェーハ世界首位級、レジストも展開
レゾナック	フォトレジスト、封止材、CMP材料	旧昭和電工＋旧日立化成統合で材料を幅広くカバー
住友化学	フォトレジスト	ArF用レジストで実績

日本企業はフォトレジスト市場でグローバルに高いプレゼンスを持っている。JSR、東京応化工業、信越化学工業、住友化学、レゾナックが主要プレイヤーとして知られ、特にArFおよびEUV用レジストでは日本勢が大きなシェアを占めるとされる。

三井化学がJSRを取り込むことで、フォトレジストとペリクルの両方を持つ唯一のグループが誕生する。東京応化工業や信越化学工業はフォトレジストでの競合であり続けるが、ペリクルを含めた「露光材料パッケージ」という提案力では差別化が図れる可能性がある。

もっとも、信越化学工業はシリコンウェーハという川上の基幹材料を持ち、レゾナックは後工程向けの封止材やダイボンディング材まで幅広くカバーしている。半導体材料は多岐にわたり、1グループですべてを押さえることは現実的ではない。各社がどの工程・どの材料で強みを発揮するかという棲み分けが、今後の競争の軸になる。

半導体サプライチェーンへの影響──顧客・装置メーカーとの関係

統合後の三井化学・JSRグループの顧客は、TSMCやサムスン電子、インテル、キオクシアなど主要な半導体メーカーとなる。フォトレジストは露光装置との相性（マッチング）が極めて重要で、特定のレジストは特定の露光条件でしか最適な性能を発揮しない。一度採用されると切り替えのハードルが高く、長期的な取引関係が続く傾向にある。これはJSRの顧客基盤が統合後も維持されやすいことを意味する。

露光装置メーカーとの関係も見逃せない。EUV露光装置を独占的に供給するASMLは、ペリクルの開発にも深く関わってきた経緯がある。三井化学がEUVペリクルの主要サプライヤーであることから、ASMLとの協力関係は統合後も継続するとみられる。フォトレジストもASMLの露光装置上で評価・最適化が行われるため、装置メーカーとの技術連携は事業の競争力に直結する。

また、イビデンのようなパッケージ基板メーカーや後工程の材料メーカーとは直接的な競合関係にはないが、前工程材料における大型再編の動きは、半導体材料業界全体の再編を促す呼び水となる可能性がある。