不純物ドーピングの手法まとめ【イオン注入・ガス・SOG】半導体製造の基礎
2022-07-03 semi-connect編集室 半導体デバイスの動作に欠かせないPN接合を形成するためには、シリコンウエハに意図的に不純物（ドーパント）を添加する「不純物ドーピング」が必要 …
半導体に急速に熱を加えるRTA(アール・ティー・エー)とは
2022-07-02 semi-connect編集室 半導体プロセスには、半導体ウエハに熱を加えることが欠かせません。 なぜなら、半導体ウエハに狙い通りのPN接合(不純物の拡散層)を作るた …
エピタキシャル成長とは？【半導体製造の基礎】ホモ・ヘテロの違いと主な成長方法
2022-01-13 semi-connect編集室 半導体製造において、ウエハの上に高品質な結晶薄膜を積み上げる技術「エピタキシャル成長」は、トランジスタや発光ダイオード（LED）、レーザーダ …
【光/EUV/X線/電子線/イオンビーム】リソグラフィ(写真製版)技術の全体像を解説!
2022-01-11 semi-connect編集室 光リソグラフィ g線光源の光リソグラフィ 高圧水銀アーク灯から発せられる波長436nmの光(電磁波)をg線(じーせん)といいます。 i …
Siのエッチングの原理を化学式を使って解説【半導体の前工程プロセス】
2022-01-09 semi-connect編集室 半導体として最も使われている材料がSi(シリコン)です。 半導体の製造プロセスでは、Siをいかに精密に、正確に、速く加工できるか、とい …
半導体プロセスの前工程「ドライエッチング」とは
2022-01-07 semi-connect編集室 ドライエッチングは、半導体チップの微細化(高性能化、低消費電力化)を求めて開発された「膜削りの技術」です。 ウェットエッチングは薬液を …
半導体プロセスの前工程「ウェットエッチング」について解説します
2022-01-06 semi-connect編集室 半導体プロセスに欠かせないのが特定の膜を削り取るエッチングプロセス(Etching Process)です。 エッチングの手法には大きく …
写真製版(光学的リソグラフィ)工程について解説します
2022-01-04 semi-connect編集室 リソグラフィ(Lithography)とは、マスクに描かれたパターン(模様)を、半導体ウェーハの上につけた感光性物質(フォトレジスト)に転写 …
