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半導体プロセス

semi-connect編集室  2023-09-23 /  2023-11-24
熱酸化SiO2で消費されるSiの量の計算 半導体プロセス

熱酸化SiO2で消費されるSiの量の計算

2023-09-23 semi-connect編集室
熱酸化SiO2は半導体に欠かせない重要な膜 SiO2(シリコン酸化膜)の中には、熱酸化SiO2やTEOSなどいろいろな種類があります。 その中で熱酸化SiO2はもっとも品質 …
温度帯ごとのCVDプロセスを整理する 半導体プロセス

温度帯ごとのCVDプロセスを整理する

2023-09-23 semi-connect編集室
CVD(Chemical Vapor Deposition、化学気相成長)は、材料をガス状の前駆体から固体薄膜またはコーティングとして成長させるプロセスです。 CVDの際の温 …
いろいろなエキシマレーザーと名前の由来 半導体プロセス

いろいろなエキシマレーザーと名前の由来

2023-09-18 semi-connect編集室
エキシマレーザーは、異なる希ガスの組み合わせを媒体として使用することによって、異なる波長や特性の紫外線レーザーを生成できるため、さまざまなタイプが存在します。 以下に、一般的 …
data_communication_image 半導体の理論

「ソルダーレジスト」と「レジスト(フォトレジスト)」の違いをわかりやすく解説

2023-09-17 semi-connect編集室
「ソルダーレジスト」と「レジスト」。どちらも電子部品・半導体の製造に登場する材料ですが、その用途・材料・工程における役割はまったく異なります …
data_communication_image 半導体の理論

酸化還元反応とは?半導体製造プロセスとの関係を基礎からわかりやすく解説

2023-09-17 semi-connect編集室
酸化還元反応は、化学の基本概念の一つであると同時に、半導体製造プロセスのいたるところで登場する重要な反応です。本記事では、酸化還元反応の基礎 …
data_communication_image 半導体プロセス

半導体工場で使用するガスや薬品

2023-09-16 semi-connect編集室
半導体工場で使用するガス 窒素ガス(N2): 酸化プロセスやアニールプロセスで酸素を除去するために使用されます。また、窒素はクリーンルーム内でクリーンな環境を維持するためにも使 …
data_communication_image 半導体プロセス

半導体ウエハの加工フローを解説

2023-07-02 semi-connect編集室
半導体ウエハは、半導体チップのもとになる重要な材料です。 ウエハは、薄い円盤形状になって、ウエハメーカー(信越化学工業株式会社やSUMCOなど)から半導体デバイスメーカーへ納 …
data_communication_image 半導体の会社分析

イオン注入機メーカーやイオン注入(ドーピング)の原理

2023-06-14 semi-connect編集室
イオン注入(イオンインプラント, ion-implant)は、半導体製造工程の一つであり、特に製品の品質と性能を向上させるために用いられます …
data_communication_image 半導体デバイス

半導体パッケージとフィラーの関係【半導体の後工程】

2023-06-13 semi-connect編集室
フィラー(Filler)とは、一般的に、ある材料の体積を増やすために、または特定の物理的、化学的、または機械的特性を改善するために、別の材料 …
data_communication_image 半導体デバイス

【半導体の後工程】半導体のリードフレームとは?

2023-06-13 semi-connect編集室
リードフレームは、半導体デバイス(ICやメモリなど)のパッケージングの一部で、通常は銅または合金から作られた金属フレームです。 リード …
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